語系
許竣凱
概要
| 作品: | 1 作品在 1 項出版品 1 種語言 | |
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書目資訊
於超臨界二氧化碳下展演低濃度氫氟酸高效蝕刻剝離奈米矽薄膜之技術及其機制之研究 = Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study
by:
國立高雄大學電機工程學系碩博士班; 許竣凱
(書目-語言資料,印刷品)
, [撰]