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以熱蒸鍍法於矽基板上製作氮氧化鋅薄膜之研究 = Study of ZnO...
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國立高雄大學電機工程學系--先進電子構裝技術產業研發碩士專班
以熱蒸鍍法於矽基板上製作氮氧化鋅薄膜之研究 = Study of ZnON thin films on Si substrate by thermal evaporation
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
Study of ZnON thin films on Si substrate by thermal evaporation
作者:
陳勁夫,
其他團體作者:
國立高雄大學
出版地:
[高雄市]
出版者:
撰者;
出版年:
2009[民98]
面頁冊數:
10, 99面圖,表 : 30公分;
標題:
熱蒸鍍
標題:
thermal evaporation
電子資源:
http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/14647063834370959590
附註:
參考書目:面95-98
附註:
附錄
以熱蒸鍍法於矽基板上製作氮氧化鋅薄膜之研究 = Study of ZnON thin films on Si substrate by thermal evaporation
陳, 勁夫
以熱蒸鍍法於矽基板上製作氮氧化鋅薄膜之研究
= Study of ZnON thin films on Si substrate by thermal evaporation / 陳勁夫撰 - [高雄市] : 撰者, 2009[民98]. - 10, 99面 ; 圖,表 ; 30公分.
參考書目:面95-98附錄.
熱蒸鍍thermal evaporation
以熱蒸鍍法於矽基板上製作氮氧化鋅薄膜之研究 = Study of ZnON thin films on Si substrate by thermal evaporation
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指導教授:藍文厚
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碩士論文--國立高雄大學電機工程學系--先進電子構裝技術產業研發碩士專班
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310001798019
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
008M/0019 542201 7515 2009
一般使用(Normal)
在架
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不外借資料
學位論文
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