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離開悲傷之後
Record Type:
Language materials, printed : monographic
Author:
胡佛
Secondary Intellectual Responsibility:
盧秋瑩,
Place of Publication:
臺北市
Published:
三采文化;
Year of Publication:
2013[民102]
Edition:
初版
Description:
295面21公分;
Series:
iREAD74
ISBN:
978-986-342-015-6
離開悲傷之後
胡佛
離開悲傷之後
/ 柯琳‧胡佛(Colleen Hoover)著 ; 盧秋瑩譯 - 初版. - 臺北市 : 三采文化, 2013[民102]. - 295面 ; 21公分. - (iREAD ; 74).
ISBN 978-986-342-015-6
盧, 秋瑩
離開悲傷之後
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東方語文圖書區(四樓)
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東方語文圖書區(四樓)
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一般圖書
874.57 4725 2013
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