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低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜...

國立高雄大學應用物理學系碩士班

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO
副題名:	B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition
作者:	李偉銘,
其他團體作者:	國立高雄大學
出版地:	高雄市
出版者:	國立高雄大學;
出版年:	2018[民107]
面頁冊數:	[12]，80葉圖，表 : 30公分;
標題:	氧化鋅
標題:	ZnO
電子資源:	https://hdl.handle.net/11296/7sgn3n
附註:	109年11月18日公開
附註:	參考書目：葉47

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition
李, 偉銘

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition / 李偉銘撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2018[民107]. - [12]，80葉 ; 圖，表 ; 30公分.
109年11月18日公開參考書目：葉47.
氧化鋅ZnO

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition
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210 $a 高雄市 $c 國立高雄大學 $d 2018[民107]
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300 $a 109年11月18日公開
300 $a 參考書目：葉47
314 $a 指導教授：蔡進譯博士，馮世維博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學應用物理學系碩士班
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610 # 0 $a 氧化鋅 $a 透明導電氧化物
610 # 1 $a ZnO $a Transparent
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