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射頻磁控濺鍍法製備Ni/ZnO = The study on the s...

國立高雄大學應用物理學系碩士班

射頻磁控濺鍍法製備Ni/ZnO = The study on the structural, electrical and magnetic properties of Ni/Ta-doped ZnO bilayers prepared by RF magnetron sputtering : Ta雙層薄膜之結構、電性及磁性調控研究

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	The study on the structural, electrical and magnetic properties of Ni/Ta-doped ZnO bilayers prepared by RF magnetron sputtering
副題名:	Ta雙層薄膜之結構、電性及磁性調控研究
作者:	林子聖,
其他團體作者:	國立高雄大學
出版地:	高雄市
出版者:	國立高雄大學;
出版年:	2021[民110]
面頁冊數:	[11]，88葉圖，表 : 30公分;
標題:	氧化鋅
標題:	ZnO
電子資源:	https://handle.ncl.edu.tw/11296/e7br36
附註:	110年5月1日公開
附註:	參考書目：葉75-76

射頻磁控濺鍍法製備Ni/ZnO = The study on the structural, electrical and magnetic properties of Ni/Ta-doped ZnO bilayers prepared by RF magnetron sputtering : Ta雙層薄膜之結構、電性及磁性調控研究
林, 子聖

射頻磁控濺鍍法製備Ni/ZnO = The study on the structural, electrical and magnetic properties of Ni/Ta-doped ZnO bilayers prepared by RF magnetron sputtering : Ta雙層薄膜之結構、電性及磁性調控研究 / 林子聖撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2021[民110]. - [11]，88葉 ; 圖，表 ; 30公分.
110年5月1日公開參考書目：葉75-76.
氧化鋅ZnO

射頻磁控濺鍍法製備Ni/ZnO = The study on the structural, electrical and magnetic properties of Ni/Ta-doped ZnO bilayers prepared by RF magnetron sputtering : Ta雙層薄膜之結構、電性及磁性調控研究
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300 $a 參考書目：葉75-76
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328 $a 碩士論文--國立高雄大學應用物理學系碩士班
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