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有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解...
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國立高雄大學電機工程學系碩博士班
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型 = Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
作者:
馮寰宇,
其他團體作者:
國立高雄大學
出版地:
高雄市
出版者:
國立高雄大學;
出版年:
2022[民111]
面頁冊數:
xi,121面圖 : 30公分;
標題:
微縮理論
標題:
Scaling Theory
電子資源:
https://hdl.handle.net/11296/4asmed
附註:
111年12月1日公開
附註:
參考書目:面113-121
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型 = Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
馮, 寰宇
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型
= Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate / 馮寰宇撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2022[民111]. - xi,121面 ; 圖 ; 30公分.
111年12月1日公開參考書目:面113-121.
微縮理論Scaling Theory
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型 = Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
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有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型
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指導教授:江德光博士
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碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
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多閘極金氧半場效電晶體
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短通道效應
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博碩士論文區(二樓)
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2 筆 • 頁數 1 •
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310003023978
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 542201 3133 2022
一般使用(Normal)
在架
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310003023986
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 542201 3133 2022 c.2
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