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N型負電容場效電晶體經退火後於不同閘極介電層 厚度之電性分析及可靠度分析...
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國立高雄大學電機工程學系碩博士班
N型負電容場效電晶體經退火後於不同閘極介電層 厚度之電性分析及可靠度分析 = Study on Reliability and Performance of Annealed N-type NC-FET with Different Thickness Gate Dielectrics
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
Study on Reliability and Performance of Annealed N-type NC-FET with Different Thickness Gate Dielectrics
作者:
沈承浩,
其他團體作者:
國立高雄大學
出版地:
高雄市
出版者:
國立高雄大學;
出版年:
2022[民111]
面頁冊數:
[17],86葉圖,表 : 30公分;
標題:
負電容場效電晶體
標題:
NC-FET
電子資源:
https://hdl.handle.net/11296/7z523k
附註:
111年12月1日公開
附註:
參考書目:葉82-86
N型負電容場效電晶體經退火後於不同閘極介電層 厚度之電性分析及可靠度分析 = Study on Reliability and Performance of Annealed N-type NC-FET with Different Thickness Gate Dielectrics
沈, 承浩
N型負電容場效電晶體經退火後於不同閘極介電層 厚度之電性分析及可靠度分析
= Study on Reliability and Performance of Annealed N-type NC-FET with Different Thickness Gate Dielectrics / 沈承浩撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2022[民111]. - [17],86葉 ; 圖,表 ; 30公分.
111年12月1日公開參考書目:葉82-86.
負電容場效電晶體NC-FET
N型負電容場效電晶體經退火後於不同閘極介電層 厚度之電性分析及可靠度分析 = Study on Reliability and Performance of Annealed N-type NC-FET with Different Thickness Gate Dielectrics
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指導教授:李耀仁博士、陳春僥博士
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負電容場效電晶體
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閘極環繞
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雷射退火
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金屬後退火
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正偏壓溫度不穩定性
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氧化鉿鋯
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博碩士論文區(二樓)
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310003023390
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 542201 3413 2022
一般使用(Normal)
在架
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310003023408
博碩士論文區(二樓)
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學位論文
TH 008M/0019 542201 3413 2022 c.2
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https://hdl.handle.net/11296/7z523k
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