國立高雄大學圖資館 |

語系: 繁體中文

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Wor...

國立高雄大學電機工程學系碩博士班

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs
作者:	鄒宗倫,
其他團體作者:	國立高雄大學
出版地:	高雄市
出版者:	國立高雄大學;
出版年:	2023[民112]
面頁冊數:	x,59葉圖,表 : 30公分;
標題:	閘極應力
標題:	Gate Stress
電子資源:	https://handle.ncl.edu.tw/11296/ca935c
附註:	112年12月1日公開
附註:	參考書目: 葉54-59

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs
鄒, 宗倫

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs / 鄒宗倫撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2023[民112]. - x,59葉 ; 圖,表 ; 30公分.
112年12月1日公開參考書目: 葉54-59.
閘極應力Gate Stress

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs
LDR:01216pam0a2200277 450 001 637211
005 20240312154257.0
010 0 $b 精裝
010 0 $b 平裝
099 $a 111NUK00442011
100 $a 20230915y2023 k y0chiy50 e
101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 $d Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs $z eng $f 鄒宗倫撰
210 $a 高雄市 $c 國立高雄大學 $d 2023[民112]
215 0 $a x,59葉 $c 圖,表 $d 30公分
300 $a 112年12月1日公開
300 $a 參考書目: 葉54-59
314 $a 指導教授: 張文騰博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
510 1 $a Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs $z eng
610 # 0 $a 閘極應力 $a 功函數金屬 $a 電場 $a 能帶圖 $a TCAD $a 次臨界擺幅 $a 臨界電壓
610 # 1 $a Gate Stress $a Work Function Metal $a Electric Field $a Energy Band Diagram $a TCAD $a Subthreshold Swing $a Threshold Voltage
681 $a 008M/0019 $b 542201 2732.1 $v 2007年版
700 1 $a 鄒 $b 宗倫 $4 撰 $3 943601
712 0 2 $a 國立高雄大學 $b 電機工程學系碩博士班 $3 769000
801 0 $a tw $b NUK $c 20230915 $g CCR
856 4 # $u https://handle.ncl.edu.tw/11296/ca935c $z 電子資源