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主題
康富修
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1 作品在 1 項出版品 1 種語言
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光阻及底層材料在極紫外光微影13.5奈米照射下的光物理及光化學性質研究 = Photophysical and photochemical properties of photoresists and underlayer materials for extreme ultraviolet lithography upon irradiation at 13.5 nm
by: 國立高雄大學應用化學系碩士班; 康富修
(書目-語言資料,印刷品)
, [撰]
主題
13.5 nm
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