語系
鄭濟允
概要
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書目資訊
針對 High-k/Metal Gate 金氧半場效電晶體在不同後製程處理的分析與探討 = The Study of High-k/Metal Gate CMOSFET with Various Post Treatments
by:
國立高雄大學電機工程學系碩士班; 鄭濟允
(書目-語言資料,印刷品)
, [撰]
主題