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以超流體技術發展奈米矽薄膜掀離及其維持轉移之技術 = Developme...
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國立高雄大學電機工程學系碩士班
以超流體技術發展奈米矽薄膜掀離及其維持轉移之技術 = Development of silicon nanomembrane lift-off and transfer-maintain processes by supercritical fluid technology
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
Development of silicon nanomembrane lift-off and transfer-maintain processes by supercritical fluid technology
作者:
廖泰鈞,
其他團體作者:
國立高雄大學
出版地:
高雄市
出版者:
撰者;
出版年:
2016[民105]
面頁冊數:
111面圖,表格 : 30公分;
標題:
絕緣層上覆矽
標題:
SOI
電子資源:
http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/67911301061625357028
附註:
105年10月25日公開
附註:
參考書目: 面93-96
以超流體技術發展奈米矽薄膜掀離及其維持轉移之技術 = Development of silicon nanomembrane lift-off and transfer-maintain processes by supercritical fluid technology
廖, 泰鈞
以超流體技術發展奈米矽薄膜掀離及其維持轉移之技術
= Development of silicon nanomembrane lift-off and transfer-maintain processes by supercritical fluid technology / 廖泰鈞撰 - 高雄市 : 撰者, 2016[民105]. - 111面 ; 圖,表格 ; 30公分.
105年10月25日公開參考書目: 面93-96.
絕緣層上覆矽SOI
以超流體技術發展奈米矽薄膜掀離及其維持轉移之技術 = Development of silicon nanomembrane lift-off and transfer-maintain processes by supercritical fluid technology
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105年10月25日公開
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參考書目: 面93-96
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指導教授: 馮瑞陽博士
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碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩士班
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絕緣層上覆矽
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奈米矽薄膜
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磊晶層剝離技術
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超臨界流體
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氫氟酸
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Si nanomembrane
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Epitaxial Lift-off Technology
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Supercritical Fluid
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Hydrofluoric acid
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310002644519
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 542201 0058 2016
一般使用(Normal)
在架
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310002644527
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 542201 0058 2016 c.2
一般使用(Normal)
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2 筆 • 頁數 1 •
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