語系:
繁體中文
English
說明(常見問題)
圖資館首頁
登入
回首頁
切換:
標籤
|
MARC模式
|
ISBD
氫離子濃度對電化學製造金奈米的影響 = The effect of pH...
~
國立高雄大學應用物理學系碩士班
氫離子濃度對電化學製造金奈米的影響 = The effect of pH value on the preparation of gold nanoparticles by electrochemistry
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
The effect of pH value on the preparation of gold nanoparticles by electrochemistry
作者:
林柏諺,
其他團體作者:
國立高雄大學
出版地:
高雄市
出版者:
國立高雄大學;
出版年:
2020[民109]
面頁冊數:
[9],47葉圖,表 : 30公分;
標題:
氫氧化鈉
標題:
Sodium hydroxide
電子資源:
https://handle.ncl.edu.tw/11296/mubwvn
附註:
109年11月18日公開
附註:
參考書目:葉38
氫離子濃度對電化學製造金奈米的影響 = The effect of pH value on the preparation of gold nanoparticles by electrochemistry
林, 柏諺
氫離子濃度對電化學製造金奈米的影響
= The effect of pH value on the preparation of gold nanoparticles by electrochemistry / 林柏諺撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2020[民109]. - [9],47葉 ; 圖,表 ; 30公分.
109年11月18日公開參考書目:葉38.
氫氧化鈉Sodium hydroxide
氫離子濃度對電化學製造金奈米的影響 = The effect of pH value on the preparation of gold nanoparticles by electrochemistry
LDR
:01201pam0a2200265 450
001
573195
005
20201124102508.0
010
0
$b
精裝
010
0
$b
平裝
100
$a
20200928y2020 k y0chiy50 b
101
0
$a
eng
$d
chi
$d
eng
102
$a
tw
105
$a
ak am 000yy
200
1
$a
氫離子濃度對電化學製造金奈米的影響
$d
The effect of pH value on the preparation of gold nanoparticles by electrochemistry
$z
eng
$f
林柏諺撰
210
$a
高雄市
$c
國立高雄大學
$d
2020[民109]
215
0
$a
[9],47葉
$c
圖,表
$d
30公分
300
$a
109年11月18日公開
300
$a
參考書目:葉38
314
$a
指導教授:黃建榮博士
328
$a
碩士論文--國立高雄大學應用物理學系碩士班
510
1
$a
The effect of pH value on the preparation of gold nanoparticles by electrochemistry
$z
eng
610
# 0
$a
氫氧化鈉
$a
硝酸
$a
電化學方法
$a
膠體
$a
介面活性劑
$a
奈米粒子
$a
氧化還原反應
610
# 1
$a
Sodium hydroxide
$a
nitric acid
$a
electrochemical methods
$a
colloids
$a
surfactants
$a
nano particles
$a
redox reaction
681
$a
008M/0019
$b
423203 4440
$v
2007年版
700
1
$a
林
$b
柏諺
$4
撰
$3
860492
712
0 2
$a
國立高雄大學
$b
應用物理學系碩士班
$3
353956
801
0
$a
tw
$b
NUK
$c
20201020
$g
CCR
856
7 #
$u
https://handle.ncl.edu.tw/11296/mubwvn
$z
電子資源
$2
http
筆 0 讀者評論
全部
博碩士論文區(二樓)
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
館藏地
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
310002928615
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 423203 4440 2020
一般使用(Normal)
在架
0
310002928623
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 423203 4440 2020 c.2
一般使用(Normal)
在架
0
2 筆 • 頁數 1 •
1
多媒體
多媒體檔案
https://handle.ncl.edu.tw/11296/mubwvn
評論
新增評論
分享你的心得
Export
取書館別
處理中
...
變更密碼
登入