語系:
繁體中文
English
說明(常見問題)
圖資館首頁
登入
回首頁
切換:
標籤
|
MARC模式
|
ISBD
後退火處理對於氧化亞銅薄膜的結構與光學性質之影響 = Post-anne...
~
國立高雄大學應用物理學系碩士班
後退火處理對於氧化亞銅薄膜的結構與光學性質之影響 = Post-annealing effects on the structural and optical properties of Cu2O thin films
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:
Post-annealing effects on the structural and optical properties of Cu2O thin films
作者:
蘇世浩,
其他團體作者:
國立高雄大學
出版地:
高雄市
出版者:
國立高雄大學;
出版年:
2022[民111]
面頁冊數:
viii,46葉圖 : 30公分;
標題:
射頻磁控濺鍍法
標題:
radio frequency sputter
電子資源:
https://hdl.handle.net/11296/3w993f
附註:
111年12月1日公開
附註:
參考書目:葉44-46
後退火處理對於氧化亞銅薄膜的結構與光學性質之影響 = Post-annealing effects on the structural and optical properties of Cu2O thin films
蘇, 世浩
後退火處理對於氧化亞銅薄膜的結構與光學性質之影響
= Post-annealing effects on the structural and optical properties of Cu2O thin films / 蘇世浩撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2022[民111]. - viii,46葉 ; 圖 ; 30公分.
111年12月1日公開參考書目:葉44-46.
射頻磁控濺鍍法radio frequency sputter
後退火處理對於氧化亞銅薄膜的結構與光學性質之影響 = Post-annealing effects on the structural and optical properties of Cu2O thin films
LDR
:01143pam0a2200265 450
001
617372
005
20230106102115.0
010
0
$b
精裝
010
0
$b
平裝
100
$a
20221021y2022 k y0chiy50 e
101
0
$a
chi
$d
chi
$d
eng
102
$a
tw
105
$a
a am 000yy
200
1
$a
後退火處理對於氧化亞銅薄膜的結構與光學性質之影響
$d
Post-annealing effects on the structural and optical properties of Cu2O thin films
$z
eng
$f
蘇世浩撰
210
$a
高雄市
$c
國立高雄大學
$d
2022[民111]
215
0
$a
viii,46葉
$c
圖
$d
30公分
300
$a
111年12月1日公開
300
$a
參考書目:葉44-46
314
$a
指導教授:謝振豪博士
328
$a
碩士論文--國立高雄大學應用物理學系碩士班
510
1
$a
Post-annealing effects on the structural and optical properties of Cu2O thin films
$z
eng
610
# 0
$a
射頻磁控濺鍍法
$a
氧化亞銅
$a
光致螢光
$a
退火效應
610
# 1
$a
radio frequency sputter
$a
Cu2O
$a
photoluminescence
$a
post annealing effect
681
$a
008M/0019
$b
423203 4443
$v
2007年版
700
1
$a
蘇
$b
世浩
$4
撰
$3
916847
712
0 2
$a
國立高雄大學
$b
應用物理學系碩士班
$3
353956
801
0
$a
tw
$b
NUK
$c
20221017
$g
CCR
856
4 #
$u
https://hdl.handle.net/11296/3w993f
$z
電子資源
$2
http
筆 0 讀者評論
全部
博碩士論文區(二樓)
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
館藏地
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
310003027151
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 423203 4443 2022
一般使用(Normal)
在架
0
310003027169
博碩士論文區(二樓)
不外借資料
學位論文
TH 008M/0019 423203 4443 2022 c.2
一般使用(Normal)
在架
0
2 筆 • 頁數 1 •
1
多媒體
多媒體檔案
https://hdl.handle.net/11296/3w993f
評論
新增評論
分享你的心得
Export
取書館別
處理中
...
變更密碼
登入