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以流量調變式有機金屬化學氣相沈積法成長磷化銦磊晶膜 = Flow-rat...

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林孟輝

以流量調變式有機金屬化學氣相沈積法成長磷化銦磊晶膜 = Flow-rate modulation of inp epitaxy by MoCVD

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Flow-rate modulation of inp epitaxy by MoCVD
Author:	林孟輝,
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立中山大學電機工程研究所出版;
Year of Publication:	1992[民81]
Description:	[10], 73面圖，表 : 29公分;
Subject:	電機工程 - 碩士論文 -
Notes:	指導教授：李明逵
Notes:	參考書目：面41-46

以流量調變式有機金屬化學氣相沈積法成長磷化銦磊晶膜 = Flow-rate modulation of inp epitaxy by MoCVD
林, 孟輝

以流量調變式有機金屬化學氣相沈積法成長磷化銦磊晶膜 = Flow-rate modulation of inp epitaxy by MoCVD / 林孟輝撰 - 高雄市 : 國立中山大學電機工程研究所出版, 1992[民81]. - [10], 73面 ; 圖，表 ; 29公分.
指導教授：李明逵參考書目：面41-46.
電機工程 -- 碩士論文

以流量調變式有機金屬化學氣相沈積法成長磷化銦磊晶膜 = Flow-rate modulation of inp epitaxy by MoCVD
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No. of reservations

310001390130

博碩士論文區(二樓)

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學位論文

008M/0009 542201 4419 1992

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