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IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development ...

國立高雄大學化學工程及材料工程學系碩士班

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.
作者:	莊家宜,
其他團體作者:	國立高雄大學
出版地:	高雄市
出版者:	國立高雄大學;
出版年:	2017[民106]
面頁冊數:	70葉部分彩圖 : 30公分;
標題:	旋轉塗佈法
標題:	Spin coating
電子資源:	http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/19177520285471432816
附註:	106年10月25日公開

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.
莊, 家宜

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement. / 莊家宜撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2017[民106]. - 70葉 ; 部分彩圖 ; 30公分.
106年10月25日公開.
參考書目：葉65-70.
旋轉塗佈法Spin coating

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.
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314 $a 指導教授：楊證富博士
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328 $a 碩士論文--國立高雄大學化學工程及材料工程學系碩士班
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610 # 1 $a Spin coating $a Chemical bath deposition $a Silicone resin $a Si-O-Si structure
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