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以超臨界流體技術發展奈米矽薄膜蝕刻剝離技術 = Development ...

國立高雄大學電機工程學系碩博士班

以超臨界流體技術發展奈米矽薄膜蝕刻剝離技術 = Development of Silicon Nanomembrane Epitaxial Lift-off Processes by Supercritical Fluids Technology

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Development of Silicon Nanomembrane Epitaxial Lift-off Processes by Supercritical Fluids Technology
Author:	王德暉,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2018[民107]
Description:	98面圖，表格 : 30公分;
Subject:	磊晶層剝離技術
Subject:	Epitaxial Lift-off Technology
Online resource:	http://hdl.handle.net/11296/e4rd25
Notes:	107年4月10日公開
Notes:	參考書目：面84-88
Notes:	附錄：超臨界二氧化碳處理氧化鋅

以超臨界流體技術發展奈米矽薄膜蝕刻剝離技術 = Development of Silicon Nanomembrane Epitaxial Lift-off Processes by Supercritical Fluids Technology
王, 德暉

以超臨界流體技術發展奈米矽薄膜蝕刻剝離技術 = Development of Silicon Nanomembrane Epitaxial Lift-off Processes by Supercritical Fluids Technology / 王德暉撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2018[民107]. - 98面 ; 圖，表格 ; 30公分.
107年4月10日公開參考書目：面84-88附錄：超臨界二氧化碳處理氧化鋅.
磊晶層剝離技術Epitaxial Lift-off Technology

以超臨界流體技術發展奈米矽薄膜蝕刻剝離技術 = Development of Silicon Nanomembrane Epitaxial Lift-off Processes by Supercritical Fluids Technology
LDR:01345pam0a2200289 450 001 518158
005 20180413101433.0
010 0 $b 精裝
010 0 $b 平裝
099 $a 106NUK00442004
100 $a 20180319y2018 k y0chiy50 e
101 1 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 以超臨界流體技術發展奈米矽薄膜蝕刻剝離技術 $d Development of Silicon Nanomembrane Epitaxial Lift-off Processes by Supercritical Fluids Technology $z eng $f 王德暉撰
210 $a 高雄市 $c 國立高雄大學 $d 2018[民107]
215 0 $a 98面 $c 圖，表格 $d 30公分
300 $a 107年4月10日公開
300 $a 參考書目：面84-88
300 $a 附錄：超臨界二氧化碳處理氧化鋅
314 $a 指導教授：馮瑞陽博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
510 1 $a Development of Silicon Nanomembrane Epitaxial Lift-off Processes by Supercritical Fluids Technology $z eng
610 # 0 $a 磊晶層剝離技術 $a 絕緣層上覆矽 $a 奈米矽薄膜 $a 超臨界二氧化碳 $a 氫氟酸
610 # 1 $a Epitaxial Lift-off Technology $a Silicon On Insulator $a Silicon nanomembrane $a Supercritical carbon dioxide $a Hydrofluoric acid
681 $a 008M/0019 $b 542201 1026 $v 2007年版
700 1 $a 王 $b 德暉 $4 撰 $3 788148
712 0 2 $a 國立高雄大學 $b 電機工程學系碩博士班 $3 769000
801 0 $a tw $b NUK $c 20180327 $g CCR
856 7 # $u http://hdl.handle.net/11296/e4rd25 $z 電子資源 $2 http