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凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of ...

國立高雄大學電機工程學系--電子構裝整合技術產業碩士專班

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process
作者:	李家豪,
其他團體作者:	國立高雄大學
出版地:	高雄市
出版者:	國立高雄大學;
出版年:	2018[民107]
面頁冊數:	61葉圖，表格 : 30公分;
標題:	凸塊製程
標題:	Bumping
電子資源:	https://hdl.handle.net/11296/z557nt
附註:	107年11月1日公開
附註:	參考書目：葉61

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process
李, 家豪

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process / 李家豪撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2018[民107]. - 61葉 ; 圖，表格 ; 30公分.
107年11月1日公開參考書目：葉61.
凸塊製程Bumping

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process
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300 $a 參考書目：葉61
314 $a 指導教授：施明昌博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系-電子構裝整合技術產業碩士專班
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