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低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜...

國立高雄大學應用物理學系碩士班

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO
Title Information:	B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition
Author:	李偉銘,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2018[民107]
Description:	[12]，80葉圖，表 : 30公分;
Subject:	氧化鋅
Subject:	ZnO
Online resource:	https://hdl.handle.net/11296/7sgn3n
Notes:	109年11月18日公開
Notes:	參考書目：葉47

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition
李, 偉銘

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition / 李偉銘撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2018[民107]. - [12]，80葉 ; 圖，表 ; 30公分.
109年11月18日公開參考書目：葉47.
氧化鋅ZnO

低壓化學氣相沉積在玻璃基板上成長厚度壓力與參雜濃度為變數之摻硼氧化鋅薄膜之特徵與分析 = Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO : B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition
LDR:01289pam0a2200265 450 001 526400
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010 0 $b 平裝
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210 $a 高雄市 $c 國立高雄大學 $d 2018[民107]
215 0 $a [12]，80葉 $c 圖，表 $d 30公分
300 $a 109年11月18日公開
300 $a 參考書目：葉47
314 $a 指導教授：蔡進譯博士，馮世維博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學應用物理學系碩士班
510 1 $a Characterizations and analyses of thickness-, pressure-, and doping-dependent ZnO $e B films grown on glass substrates by a low-pressure chemical vapor deposition $z eng
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610 # 1 $a ZnO $a Transparent
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