Al/SiO2薄膜對紫外光抗反射特性之研究 = The Study of...
國立高雄大學電機工程學系--電子構裝整合技術產業碩士專班

 

  • Al/SiO2薄膜對紫外光抗反射特性之研究 = The Study of Al/SiO2 Ultraviolet Light Anti-Reflection Film and its Optical Characterization
  • Record Type: Language materials, printed : monographic
    Paralel Title: The Study of Al/SiO2 Ultraviolet Light Anti-Reflection Film and its Optical Characterization
    Author: 黃柏翰,
    Secondary Intellectual Responsibility: 國立高雄大學
    Place of Publication: 高雄市
    Published: 國立高雄大學;
    Year of Publication: 2019[民108]
    Description: 45葉圖,表格 : 30公分;
    Subject: 抗反射
    Subject: Anti-Reflection
    Online resource: http://handle.ncl.edu.tw/11296/k39qvg
    Notes: 108年10月31日公開
    Notes: 參考書目: 葉36-37
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310002873696 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 4444.1 2019 一般使用(Normal) On shelf 0
310002873704 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 4444.1 2019 c.2 一般使用(Normal) On shelf 0
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