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快速熱退火處理對於負電容場效電晶體之電性分析及可靠度研究 = The D...

國立高雄大學電機工程學系碩博士班

快速熱退火處理對於負電容場效電晶體之電性分析及可靠度研究 = The Device Performance and Reliability of NCFET with post Rapid Thermal Annealing Treatment

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	The Device Performance and Reliability of NCFET with post Rapid Thermal Annealing Treatment
作者:	顏伸亦,
其他團體作者:	國立高雄大學
出版地:	高雄市
出版者:	國立高雄大學;
出版年:	2020[民109]
面頁冊數:	xi,58葉圖 : 30公分;
標題:	負電容場效電晶體
標題:	NCFET
電子資源:	https://handle.ncl.edu.tw/11296/gkjdj7
附註:	114年9月26日公開
附註:	參考書目: 葉54-58

快速熱退火處理對於負電容場效電晶體之電性分析及可靠度研究 = The Device Performance and Reliability of NCFET with post Rapid Thermal Annealing Treatment
顏, 伸亦

快速熱退火處理對於負電容場效電晶體之電性分析及可靠度研究 = The Device Performance and Reliability of NCFET with post Rapid Thermal Annealing Treatment / 顏伸亦撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2020[民109]. - xi,58葉 ; 圖 ; 30公分.
114年9月26日公開參考書目: 葉54-58.
負電容場效電晶體NCFET

快速熱退火處理對於負電容場效電晶體之電性分析及可靠度研究 = The Device Performance and Reliability of NCFET with post Rapid Thermal Annealing Treatment
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314 $a 指導教授: 葉文冠博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
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