國立高雄大學圖資館 |

Language: English

Back

於超臨界二氧化碳下展演低濃度氫氟酸高效蝕刻剝離奈米矽薄膜之技術及其機制之...

國立高雄大學電機工程學系碩博士班

於超臨界二氧化碳下展演低濃度氫氟酸高效蝕刻剝離奈米矽薄膜之技術及其機制之研究 = Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study
Author:	許竣凱,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2020[民109]
Description:	[15]，122面圖，表 : 30公分;
Subject:	磊晶層剝離技術
Subject:	epitaxial lift-off
Online resource:	https://handle.ncl.edu.tw/11296/er65xs
Notes:	109年11月18日公開
Notes:	參考書目：面102-105

於超臨界二氧化碳下展演低濃度氫氟酸高效蝕刻剝離奈米矽薄膜之技術及其機制之研究 = Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study
許, 竣凱

於超臨界二氧化碳下展演低濃度氫氟酸高效蝕刻剝離奈米矽薄膜之技術及其機制之研究 = Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study / 許竣凱撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2020[民109]. - [15]，122面 ; 圖，表 ; 30公分.
109年11月18日公開參考書目：面102-105.
磊晶層剝離技術epitaxial lift-off

於超臨界二氧化碳下展演低濃度氫氟酸高效蝕刻剝離奈米矽薄膜之技術及其機制之研究 = Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study
LDR:01356pam0a2200265 450 001 573218
005 20201124102523.0
010 0 $b 精裝
010 0 $b 平裝
100 $a 20200928y2020 k y0chiy50 e
101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 於超臨界二氧化碳下展演低濃度氫氟酸高效蝕刻剝離奈米矽薄膜之技術及其機制之研究 $d Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study $z eng $f 許竣凱撰
210 $a 高雄市 $c 國立高雄大學 $d 2020[民109]
215 0 $a [15]，122面 $c 圖，表 $d 30公分
300 $a 109年11月18日公開
300 $a 參考書目：面102-105
314 $a 指導教授：馮瑞陽博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
510 1 $a Technology for Silicon Nanomembrane by using Low Concentration Hydrofluoric under Supercritical Carbon Dioxide and its Mechanism Study $z eng
610 # 0 $a 磊晶層剝離技術 $a 奈米矽薄膜 $a 絕緣層上矽 $a 超臨界二氧化碳 $a 氫氟酸
610 # 1 $a epitaxial lift-off $a silicon nanomembrane $a SOI $a supercritical carbon dioxide $a Hydrofluoric acid
681 $a 008M/0019 $b 542201 0802.1 $v 2007年版
700 1 $a 許 $b 竣凱 $4 撰 $3 860512
712 0 2 $a 國立高雄大學 $b 電機工程學系碩博士班 $3 769000
801 0 $a tw $b NUK $c 20201016 $g CCR
856 7 # $u https://handle.ncl.edu.tw/11296/er65xs $z 電子資源 $2 http