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快速熱退火與氟離子電漿對不同鰭寬度的鐵電場效電晶體之電性分析及HCI可靠...

國立高雄大學電機工程學系碩博士班

快速熱退火與氟離子電漿對不同鰭寬度的鐵電場效電晶體之電性分析及HCI可靠度研究 = The Impact of RTA and Fluorine Plasma Treatment on the Device Performance and HCI Reliability of FeFET with different fin widths

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	The Impact of RTA and Fluorine Plasma Treatment on the Device Performance and HCI Reliability of FeFET with different fin widths
Author:	李芳議,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2021[民110]
Description:	xi,69葉圖，表 : 30公分;
Subject:	介面層缺陷
Subject:	FeFET
Online resource:	https://hdl.handle.net/11296/7gb437
Notes:	110年12月1日公開
Notes:	參考書目：葉51-58

快速熱退火與氟離子電漿對不同鰭寬度的鐵電場效電晶體之電性分析及HCI可靠度研究 = The Impact of RTA and Fluorine Plasma Treatment on the Device Performance and HCI Reliability of FeFET with different fin widths
李, 芳議

快速熱退火與氟離子電漿對不同鰭寬度的鐵電場效電晶體之電性分析及HCI可靠度研究 = The Impact of RTA and Fluorine Plasma Treatment on the Device Performance and HCI Reliability of FeFET with different fin widths / 李芳議撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2021[民110]. - xi,69葉 ; 圖，表 ; 30公分.
110年12月1日公開參考書目：葉51-58.
介面層缺陷FeFET

快速熱退火與氟離子電漿對不同鰭寬度的鐵電場效電晶體之電性分析及HCI可靠度研究 = The Impact of RTA and Fluorine Plasma Treatment on the Device Performance and HCI Reliability of FeFET with different fin widths
LDR:01231pam0a2200265 450 001 601004
005 20220310115339.0
010 0 $b 精裝
010 0 $b 平裝
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300 $a 參考書目：葉51-58
314 $a 指導教授：陳春僥博士，葉文冠博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
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