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有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解...
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國立高雄大學電機工程學系碩博士班
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型 = Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
Record Type:
Language materials, printed : monographic
Paralel Title:
Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
Author:
馮寰宇,
Secondary Intellectual Responsibility:
國立高雄大學
Place of Publication:
高雄市
Published:
國立高雄大學;
Year of Publication:
2022[民111]
Description:
xi,121面圖 : 30公分;
Subject:
微縮理論
Subject:
Scaling Theory
Online resource:
https://hdl.handle.net/11296/4asmed
Notes:
111年12月1日公開
Notes:
參考書目:面113-121
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型 = Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
馮, 寰宇
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型
= Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate / 馮寰宇撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2022[民111]. - xi,121面 ; 圖 ; 30公分.
111年12月1日公開參考書目:面113-121.
微縮理論Scaling Theory
有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型 = Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
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有關雙材質四閘極型金氧半場效電晶體次臨界行為與其應用於次臨界邏輯電路之解析模型
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Analytical Subthreshold Model of Dual material Quadruple-Gate MOSFETs and ItsApplication for the Evaluation of Subthreshold Logic Gate
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馮寰宇撰
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指導教授:江德光博士
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碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
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多閘極金氧半場效電晶體
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短通道效應
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次臨界行為
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次臨界邏輯電路
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Multiple-Gate MOSFETs
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Short-Channel Effects
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博碩士論文區(二樓)
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博碩士論文區(二樓)
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博碩士論文區(二樓)
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學位論文
TH 008M/0019 542201 3133 2022 c.2
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