氧化鎵阻障層應用於鉺摻雜氧化鋅鎂二極體研究 = Study of Ga2...
國立高雄大學電機工程學系碩博士班

 

  • 氧化鎵阻障層應用於鉺摻雜氧化鋅鎂二極體研究 = Study of Ga2O3 Barrier Layer on Er Doped MgZnO Diode
  • Record Type: Language materials, printed : monographic
    Paralel Title: Study of Ga2O3 Barrier Layer on Er Doped MgZnO Diode
    Author: 應世偉,
    Secondary Intellectual Responsibility: 國立高雄大學
    Place of Publication: 高雄市
    Published: 國立高雄大學;
    Year of Publication: 2022[民111]
    Description: x,65葉圖,表 : 30公分;
    Subject: 氧化鎵
    Subject: Ga2O3
    Online resource: https://hdl.handle.net/11296/676pbs
    Notes: 111年12月1日公開
    Notes: 參考書目:葉62-65
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310003024158 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 0042.1 2022 一般使用(Normal) On shelf 0
310003024166 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 0042.1 2022 c.2 一般使用(Normal) On shelf 0
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