鐵電薄膜應用P型奈米線電晶體 = Applications of Fer...
國立高雄大學電機工程學系碩博士班

 

  • 鐵電薄膜應用P型奈米線電晶體 = Applications of Ferroelectric Thin Film for the Fabrication of P-type Gate-All-Around FETs
  • Record Type: Language materials, printed : monographic
    Paralel Title: Applications of Ferroelectric Thin Film for the Fabrication of P-type Gate-All-Around FETs
    Author: 林崇志,
    Secondary Intellectual Responsibility: 國立高雄大學
    Place of Publication: 高雄市
    Published: 國立高雄大學;
    Year of Publication: 2022[民111]
    Description: ix,39葉圖 : 30公分;
    Subject: 鐵電薄膜電晶體
    Subject: Ferroelectric thin film
    Online resource: https://hdl.handle.net/11296/qbazx9
    Notes: 111年12月1日公開
    Notes: 參考書目:葉38-39
Items
  • 2 records • Pages 1 •
 
310003023911 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 4424.4 2022 一般使用(Normal) On shelf 0
310003023929 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 4424.4 2022 c.2 一般使用(Normal) On shelf 0
  • 2 records • Pages 1 •
Multimedia
Reviews
Export
pickup library
 
 
Change password
Login