以超臨界二氧化碳流體技術改質多孔矽結構之研究 = The Study o...
國立高雄大學電機工程學系碩博士班

 

  • 以超臨界二氧化碳流體技術改質多孔矽結構之研究 = The Study of Modification of Porous Silicon Structures by Supercritical Carbon Dioxide Fluid Technology
  • Record Type: Language materials, printed : monographic
    Paralel Title: The Study of Modification of Porous Silicon Structures by Supercritical Carbon Dioxide Fluid Technology
    Author: 郭立文,
    Secondary Intellectual Responsibility: 國立高雄大學
    Place of Publication: 高雄市
    Published: 國立高雄大學;
    Year of Publication: 2023[民112]
    Description: xi,98面圖,表 : 30公分;
    Subject: 多孔矽
    Subject: porous silicon
    Online resource: https://handle.ncl.edu.tw/11296/xth8tb
    Notes: 112年12月1日公開
    Notes: 參考書目: 面86-93
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310003062794 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 0700.1 2023 一般使用(Normal) On shelf 0
310003062802 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 0700.1 2023 c.2 一般使用(Normal) On shelf 0
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