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堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Wor...

國立高雄大學電機工程學系碩博士班

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs
Author:	鄒宗倫,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2023[民112]
Description:	x,59葉圖,表 : 30公分;
Subject:	閘極應力
Subject:	Gate Stress
Online resource:	https://handle.ncl.edu.tw/11296/ca935c
Notes:	112年12月1日公開
Notes:	參考書目: 葉54-59

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs
鄒, 宗倫

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs / 鄒宗倫撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2023[民112]. - x,59葉 ; 圖,表 ; 30公分.
112年12月1日公開參考書目: 葉54-59.
閘極應力Gate Stress

堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 = Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs
LDR:01216pam0a2200277 450 001 637211
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010 0 $b 精裝
010 0 $b 平裝
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200 1 $a 堆疊式功函數金屬為 N/P 型鰭式場效電晶體之閘極應力可靠性 $d Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs $z eng $f 鄒宗倫撰
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215 0 $a x,59葉 $c 圖,表 $d 30公分
300 $a 112年12月1日公開
300 $a 參考書目: 葉54-59
314 $a 指導教授: 張文騰博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系碩博士班
510 1 $a Work Function Metals on Gate Stress Reliability of N- and P-FinFETs $z eng
610 # 0 $a 閘極應力 $a 功函數金屬 $a 電場 $a 能帶圖 $a TCAD $a 次臨界擺幅 $a 臨界電壓
610 # 1 $a Gate Stress $a Work Function Metal $a Electric Field $a Energy Band Diagram $a TCAD $a Subthreshold Swing $a Threshold Voltage
681 $a 008M/0019 $b 542201 2732.1 $v 2007年版
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