模擬無接面環繞式閘極電晶體相同截面積下不同長寬表現差異 = Simula...
國立高雄大學電機工程學系碩博士班

 

  • 模擬無接面環繞式閘極電晶體相同截面積下不同長寬表現差異 = Simulating Gate-All-Around MOSFETs with Different Perimeters but Equal Cross-Section Area
  • Record Type: Language materials, printed : monographic
    Paralel Title: Simulating Gate-All-Around MOSFETs with Different Perimeters but Equal Cross-Section Area
    Author: 鄭雄展,
    Secondary Intellectual Responsibility: 國立高雄大學
    Place of Publication: 高雄市
    Published: 國立高雄大學;
    Year of Publication: 2023[民112]
    Description: x,29葉圖 : 30公分;
    Subject: 環繞式閘極電晶體
    Subject: Gate-All-Around Field-Effect Transistor (GAAFET)
    Online resource: https://handle.ncl.edu.tw/11296/kjrm7g
    Notes: 112年12月1日公開
    Notes: 參考書目: 葉28-29
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310003062638 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 8747 2023 一般使用(Normal) On shelf 0
310003062646 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 8747 2023 c.2 一般使用(Normal) On shelf 0
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