矽晶圓DPEG研磨製程之優化研究 = Dry Polishing Ext...
國立高雄大學電機工程學系-半導體製造智能化技術產業碩士專班

 

  • 矽晶圓DPEG研磨製程之優化研究 = Dry Polishing Extrinsic Gettering Process Optimization for Silicon Wafer Grinding
  • Record Type: Language materials, printed : monographic
    Paralel Title: Dry Polishing Extrinsic Gettering Process Optimization for Silicon Wafer Grinding
    Author: 曹恩典,
    Secondary Intellectual Responsibility: 國立高雄大學
    Place of Publication: 高雄市
    Published: 國立高雄大學;
    Year of Publication: 2024[民113]
    Description: ix,53葉圖,表 : 30公分;
    Subject: 半導體研磨
    Online resource: https://handle.ncl.edu.tw/11296/tsrk38
    Notes: 113年11月15日公開
    Notes: 參考書目: 葉49-53
Items
  • 2 records • Pages 1 •
 
310003110411 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 5565 2024 一般使用(Normal) On shelf 0
310003110429 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 5565 2024 c.2 一般使用(Normal) On shelf 0
  • 2 records • Pages 1 •
Multimedia
Reviews
Export
pickup library
 
 
Change password
Login