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SiO₂薄膜電容元件製作及其電容特性研究 = Fabrication o...

國立高雄大學電機工程學系--半導體製造智能化技術產業碩士專班

SiO₂薄膜電容元件製作及其電容特性研究 = Fabrication of a SiO₂ Thin Film Capacitor and its Characterization

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Fabrication of a SiO₂ Thin Film Capacitor and its Characterization
Author:	郭思廷,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2025[民114]
Description:	x,53葉圖,表 : 30公分;
Subject:	SiO₂
Subject:	SiO₂
Online resource:	https://handle.ncl.edu.tw/11296/we8wd2
Notes:	114年4月15日公開
Notes:	參考書目: 葉52-53

SiO₂薄膜電容元件製作及其電容特性研究 = Fabrication of a SiO₂ Thin Film Capacitor and its Characterization
郭, 思廷

SiO₂薄膜電容元件製作及其電容特性研究 = Fabrication of a SiO₂ Thin Film Capacitor and its Characterization / 郭思廷撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2025[民114]. - x,53葉 ; 圖,表 ; 30公分.
114年4月15日公開參考書目: 葉52-53.
SiO₂SiO₂

SiO₂薄膜電容元件製作及其電容特性研究 = Fabrication of a SiO₂ Thin Film Capacitor and its Characterization
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300 $a 114年4月15日公開
300 $a 參考書目: 葉52-53
314 $a 指導教授: 施明昌教授
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系-半導體製造智能化技術產業碩士專班
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610 0 $a SiO₂ $a 熱退火 $a 介電常數 $a 電子蒸鍍 $a 薄膜電容
610 1 $a SiO₂ $a Thermal annealing $a Dielectric constant $a Electron beam evaporation $a Thin-film capacitor
681 $a 008M/0019 $b 542201 0761 $v 2007年版
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