p型銅銦硒薄膜及含鎳電極之接觸電阻研究 = Studies for th...
國立高雄大學電機工程學系碩士班

 

  • p型銅銦硒薄膜及含鎳電極之接觸電阻研究 = Studies for the p-type CIS Film and the Nickel-contained Ohmic Contact Metal
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : 單行本
    並列題名: Studies for the p-type CIS Film and the Nickel-contained Ohmic Contact Metal
    作者: 趙偉民,
    其他團體作者: 國立高雄大學
    出版地: [高雄市]
    出版者: 撰者;
    出版年: 2012[民101]
    面頁冊數: 68面圖,表格 : 30公分;
    標題: 磁控濺鍍
    標題: sputter
    電子資源: http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/09673859332137559443
    附註: 參考書目:面55-58
    摘要註: 本研究以磁控濺鍍系統生成不同銅/銦厚度比之薄膜,經硒化熱處理生成銅銦硒(CuInSe2, CIS)薄膜。於適當之銅/銦比例時,可形成p型CIS薄膜,載子濃度可達1.0E+17 cm-3。薄膜可藉由後續氬氣熱處理來形成較大之晶粒;但當熱處理溫度超過350℃,薄膜表面開始出現孔洞。並探討不同厚度之鎳/銅與鎳/金層對此CIS薄膜的特徵接觸電阻,完成之特徵接觸電阻最低可達3.4E-4 Ω-cm2。經由整合適當製程參數,製作完成此CIS薄膜於ITO玻璃與FTO玻璃上形成的p-n接面太陽電池,並對其特性做一分析。 In the thesis, p-type CuInSe2 (CIS) film was fabricated by magnetron sputtering Cu/In metals on glass substrate followed by selenization. The hole concentration as 1.0E+17 cm-3 can be achieved. The grain size of the CIS film can be enhanced after the thermal treatment in the Ar atmosphere while the porous surface can be observed as the temperature reached 350 ℃. The metal contact was studied after deposited Ni/Cu and Ni/Au metals with different thickness on the CIS film. The specific contact resistance as 3.4E-4 Ω-cm2 can be achieved. After forming such CIS film on glass/ITO and glass/FTO substrate followed by Ni/Au metal deposition, the p-n junction solar cell can be achieved. The device performance was characterized.
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  • 2 筆 • 頁數 1 •
 
310002292251 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 4927 2012 一般使用(Normal) 在架 0
310002292269 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 4927 2012 c.2 一般使用(Normal) 在架 0
  • 2 筆 • 頁數 1 •
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