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以射頻磁控濺鍍法沉積鋯鈦酸鋇薄膜於ITO基板之研究 = The Stud...

國立中山大學電機工程學系

以射頻磁控濺鍍法沉積鋯鈦酸鋇薄膜於ITO基板之研究 = The Study of BZT Thin Film Deposited on ITO Substrate by RF Magnetron Sputtering

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	The Study of BZT Thin Film Deposited on ITO Substrate by RF Magnetron Sputtering
Author:	張評款,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立中山大學
Place of Publication:	[高雄市]
Published:	撰者;
Year of Publication:	2006[民95]
Description:	103面圖，表格 : 30公分;
Notes:	參考書目：面45-49

以射頻磁控濺鍍法沉積鋯鈦酸鋇薄膜於ITO基板之研究 = The Study of BZT Thin Film Deposited on ITO Substrate by RF Magnetron Sputtering
張, 評款

以射頻磁控濺鍍法沉積鋯鈦酸鋇薄膜於ITO基板之研究 = The Study of BZT Thin Film Deposited on ITO Substrate by RF Magnetron Sputtering / 張評款撰 - [高雄市] : 撰者, 2006[民95]. - 103面 ; 圖，表格 ; 30公分.
參考書目：面45-49.

以射頻磁控濺鍍法沉積鋯鈦酸鋇薄膜於ITO基板之研究 = The Study of BZT Thin Film Deposited on ITO Substrate by RF Magnetron Sputtering
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210 $a [高雄市] $c 撰者 $d 2006[民95]
215 0 $a 103面 $c 圖，表格 $d 30公分
300 $a 參考書目：面45-49
314 $a 指導教授：陳英忠博士
328 $a 碩士論文--國立中山大學電機工程學系
510 1 $a The Study of BZT Thin Film Deposited on ITO Substrate by RF Magnetron Sputtering $z eng
681 $a 008M/0009 $b 542201 1104.1 $v 2007年版
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