晶圓尺寸級微影製程最佳化研究 = The Optimization of...
國立高雄大學電機工程學系--先進電子構裝技術產業研發碩士專班

 

  • 晶圓尺寸級微影製程最佳化研究 = The Optimization of Photolithography in Wafer Level packaging
  • Record Type: Language materials, printed : monographic
    Paralel Title: The Optimization of Photolithography in Wafer Level packaging
    Author: 陳虹如,
    Secondary Intellectual Responsibility: 國立高雄大學
    Place of Publication: 高雄市
    Published: 撰者;
    Year of Publication: 2016[民105]
    Description: 41面圖,表格 : 30公分;
    Subject: 黃光微影製程
    Subject: Photolithography process
    Online resource: http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/64667121762732062867
    Notes: 105年10月25日公開
    Notes: 含參考書目
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310002644550 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 7554 2016 一般使用(Normal) On shelf 0
310002644568 博碩士論文區(二樓) 不外借資料 學位論文 TH 008M/0019 542201 7554 2016 c.2 一般使用(Normal) On shelf 0
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