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IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development ...

國立高雄大學化學工程及材料工程學系碩士班

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.
Author:	莊家宜,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2017[民106]
Description:	70葉部分彩圖 : 30公分;
Subject:	旋轉塗佈法
Subject:	Spin coating
Online resource:	http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/19177520285471432816
Notes:	106年10月25日公開

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.
莊, 家宜

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement. / 莊家宜撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2017[民106]. - 70葉 ; 部分彩圖 ; 30公分.
106年10月25日公開.
參考書目：葉65-70.
旋轉塗佈法Spin coating

IC測試載台之新式高均勻性、高阻抗塗層開發 = Development of new insulation layer with high homogeneity and resistance for shuttle used in IC measurement.
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300 $a 106年10月25日公開
314 $a 指導教授：楊證富博士
320 $a 參考書目：葉65-70
328 $a 碩士論文--國立高雄大學化學工程及材料工程學系碩士班
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610 # 1 $a Spin coating $a Chemical bath deposition $a Silicone resin $a Si-O-Si structure
681 $a 008M/0019 $b 541208 4433.1 $v 2007年版
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