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凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of ...

國立高雄大學電機工程學系--電子構裝整合技術產業碩士專班

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process
Author:	李家豪,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立高雄大學
Place of Publication:	高雄市
Published:	國立高雄大學;
Year of Publication:	2018[民107]
Description:	61葉圖，表格 : 30公分;
Subject:	凸塊製程
Subject:	Bumping
Online resource:	https://hdl.handle.net/11296/z557nt
Notes:	107年11月1日公開
Notes:	參考書目：葉61

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process
李, 家豪

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process / 李家豪撰 - 高雄市 : 國立高雄大學, 2018[民107]. - 61葉 ; 圖，表格 ; 30公分.
107年11月1日公開參考書目：葉61.
凸塊製程Bumping

凸塊負型光阻塗佈的光阻減量最佳化參數研究 = The Study of Negative Photoresist Reduction Issue for Bump Formation Process
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314 $a 指導教授：施明昌博士
328 $a 碩士論文--國立高雄大學電機工程學系-電子構裝整合技術產業碩士專班
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610 # 1 $a Bumping $a Photoresist Coating $a Photoresist Reduction
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