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Plasma processes for semiconductor f...
~
Hitchon, W. Nicholas G.
Plasma processes for semiconductor fabrication /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
Plasma processes for semiconductor fabrication /W.N.G. Hitchon.
作者:
Hitchon, W. Nicholas G.
出版者:
Cambridge ;Cambridge University Press,2005.
面頁冊數:
ix, 221 p. :ill. ;26 cm.
叢書名:
Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering ;
標題:
Plasma etching.
電子資源:
http://www.loc.gov/catdir/toc/cam025/98011717.html
電子資源:
http://www.loc.gov/catdir/description/cam029/98011717.html
ISBN:
0521591759 (hbk.)
Plasma processes for semiconductor fabrication /
Hitchon, W. Nicholas G.
Plasma processes for semiconductor fabrication /
W.N.G. Hitchon. - Cambridge ;Cambridge University Press,2005. - ix, 221 p. :ill. ;26 cm. - Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering ;8.
Includes bibliographical references (p. 205-211) and index.
ISBN: 0521591759 (hbk.)
LCCN: 98011717 Subjects--Topical Terms:
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Plasma etching.
LC Class. No.: TK7871.85 / .H54 2005
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西方語文圖書區(四樓)
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320000428369
西方語文圖書區(四樓)
1圖書
一般圖書
TK7871.85 H675 2005
一般使用(Normal)
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http://www.loc.gov/catdir/toc/cam025/98011717.html
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